Развитие отечественной базы микроэлектроники
Министерство промышленности и торговли России запустило два крупных конкурса, направленных на создание и запуск серийного производства специальных материалов, необходимых для процессов электронно-лучевой и взрывной литографии. Общий объем финансирования проектов составляет почти 2 млрд рублей.
Реализация инициатив призвана обеспечить технологический суверенитет в производстве микроэлектронных компонентов и СВЧ-устройств. Согласно условиям тендеров, работы должны быть полностью завершены к ноябрю 2029 года.
Ключевые направления и цели проектов
Программа разделена на два ключевых направления:
- «СВЧ Резист-1»: на этот проект выделено 1,017 млрд рублей. Его задача — создание 12 разновидностей электронно-лучевых резистов, которые смогут заменить продукцию ведущих мировых брендов, включая немецкие Allresist и Microresist, японскую ZEON и американскую MicroChem.
- «СВЧ Резист-2»: бюджет проекта составляет 889,5 млн рублей. Цель — разработка семи типов материалов, выступающих аналогами востребованных в индустрии американских резистов серий LOR и PMGI.
«На текущий момент в России отсутствует собственная производственная база данных материалов, поэтому потребности отечественной научной и промышленной сфер ранее удовлетворялись исключительно за счет импорта», — подчеркивается в проектной документации.
Технологическая значимость литографии
Электронно-лучевая литография играет критическую роль в современной полупроводниковой индустрии: она позволяет формировать сверхточные структуры с разрешением в несколько нанометров, что необходимо для создания сложных микросхем и фотошаблонов. В свою очередь, взрывная литография незаменима при создании металлических структур для силовой и СВЧ-электроники.
Данные государственные заказы являются логичным продолжением долгосрочной стратегии импортозамещения в микроэлектронной отрасли. Ранее ведомство уже направляло ресурсы на разработку фоторезистов и специализированных химических смесей, критически важных для выпуска интегральных схем.