Новая стратегия Nikon на рынке DUV-литографии

Японская корпорация Nikon взяла курс на возвращение своих позиций в индустрии оборудования для производства микросхем. Новый генеральный директор компании Ясухиро Омура, вступивший в должность в апреле, сообщил, что Nikon планирует навязать ценовую конкуренцию лидеру рынка — нидерландской компании ASML. В интервью изданию Nikkei Asia он подтвердил, что переговоры с рядом крупных полупроводниковых производств в США и странах Азии уже находятся на финальной стадии и стороны близки к подписанию контрактов на поставку новых ArF-систем (на основе фторида аргона).


Борьба за сегмент глубокого ультрафиолета

Хотя в секторе экстремального ультрафиолета (EUV), необходимого для создания наиболее современных и сложных процессоров, ASML удерживает монополию, рынок глубокого ультрафиолета (DUV) предоставляет Nikon широкие возможности. Иммерсионная ArF-литография остается фундаментом производства: даже при создании самых передовых 3-нм чипов значительная часть технологических операций выполняется именно на ArF-оборудовании.

На фоне того, что стоимость передовых сканеров ASML достигает 82,5 млн долларов за установку, Nikon делает ставку на ценовую доступность. Ясухиро Омура отмечает: «Мы производим многие детали самостоятельно на собственных мощностях, что дает нам весомое преимущество в ценовой конкуренции».


Вызовы и планы по развитию

Спрос на литографическое оборудование сегодня ажиотажный из-за глобального бума технологий искусственного интеллекта. Тем не менее, возвращение Nikon на рынок будет непростым, учитывая серьезное падение объемов поставок и финансовый убыток в 86 млрд иен по итогам прошлого года. Тем не менее, глава компании видит перспективу в запросе производителей чипов на диверсификацию цепочек поставок: «сами производители микросхем предпочли бы иметь двух независимых поставщиков вместо тотальной зависимости от одного, чтобы сдерживать постоянный рост стоимости оборудования».

В рамках новой стратегии Nikon сфокусируется на двух ключевых направлениях: выпуске фототехники и производстве инструментов для микроэлектроники. Важным этапом станет 2028 финансовый год, когда компания планирует выпустить новую иммерсионную ArF-платформу. Ожидается, что она получит современные объективы, улучшенную систему позиционирования пластин и будет полностью совместима с существующим парком оборудования ASML.